在正常運(yùn)行一段時間后，反滲透膜元件會受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染，這些污染物中常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機(jī)或無機(jī)沉積物。

　　常見污染物及其去除方法：

　　1、碳酸鈣垢：在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障，或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障而導(dǎo)致給水pH值升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來，應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長后的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷。

　　2、針對沉淀時間較長的碳酸鈣垢，則應(yīng)采用2%的檸檬酸或0.2%的鹽酸清洗液進(jìn)行清洗。

　　3、硅垢：對于不是與金屬化物或有機(jī)物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將其去除。

　　4、有機(jī)沉淀物：有機(jī)沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液去除，為了防止再繁殖，可使用殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效。

　　5、清洗液：確定清洗液前對污染物進(jìn)行化學(xué)分析是十分重的。對分析結(jié)果的詳細(xì)分析比較，可保證選擇更為合適的清洗劑及清洗方法。應(yīng)記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出更為有效的清洗方法提供依據(jù)。

　　污染物的去除可通過化學(xué)清洗和物理沖洗來實(shí)現(xiàn)，有時也可以通過改變運(yùn)行條件來實(shí)現(xiàn)，作為一般的原則，當(dāng)下列情形之一發(fā)生時應(yīng)進(jìn)行清洗。

　　1、在正常壓力下如產(chǎn)品水流量降至正常值的10～15%。

　　2、為了維持正常的產(chǎn)品水流量，經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加了10～15%。

　　3、產(chǎn)品水質(zhì)降低10～15%，鹽透過率增加10～15%。

　　4、使用壓力增加10～15%。

　　5、RO各段間的壓差增加明顯(也許沒有儀表來監(jiān)測這一跡象)。

　　定期檢測系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件發(fā)生污染的一個好方法，不同的污染物會對膜元件性能造成不同程度的損害。污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關(guān)，污染是慢慢發(fā)展的，應(yīng)提前采取有效措施，避免污染物損壞影響反滲透膜元件的性能。